이엔에프테크놀로지는 고도의 합성기술과 정제기술을 기반으로
포토레지스트용 핵심원료를 생산하고 있습니다
포토레지스트용 핵심원료를 생산하고 있습니다
반도체 / 디스플레이 제조공정에 사용되는 정밀화학 제품은 합성(Synthesis)과 정제(Purification) 기술을 기반으로 제조하고 있습니다.
디스플레이용 제품으로는 모노머 및 바인더류를 제조하고 있으며, 반도체용 재료로 사용되는 포토레지스트용 모노머, 폴리머,
광산발생제 및 반사방지막용 모노머, 폴리머 등의 제품을 제조하고 있습니다.
| 구분 | 제품군 |
|---|---|
| 반도체 | 포토레지스트용 Monomer, Polymer |
| Photo Acid Generator | |
| Anti Reflective Coating Monomer, Polymer | |
| Additive | |
| Hardmask용 원료 | |
| 디스플레이 | Monomer |
| Binder |
주요제품
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포토레지스트용 원료이엔에프테크놀로지는 국내 포토레지스트용 핵심원료를 생산하는 기업으로, 기술력과 매출 성장면에서
독보적인 우위를 차지하고 있습니다. 삼성전자, SK hynix 등 주요 반도체 제조사의 포토레지스트의
사용량 증가에 따라 핵심원료인 모노머, 광산발생제 등의 시장규모도 대폭 확대되고 있습니다.
반도체 회로의 선폭이 미세화됨에 따라 포토레지스트의 사용량의 증가가 예상되며 이에 대응하는
이엔에프테크놀로지의 모노머/폴리머 및 광산발생제 사업은 높은 성장 잠재력을 갖고 있습니다.
이엔에프테크놀로지는 반도체 재료업체들과 포토레지스트를 개발하던 초기부터 포토레지스트용 핵심원료
개발을 시작하여 일본 등 해외 유수 업체와 경쟁할 수 있는 기술경쟁력을 확보하고 있으며 국내에서 독보적인
핵심원료 공급업체로 세계를 향해 나아가고 있습니다.
포토레지스트용 핵심원료 공급
모노머
PR 폴리머
PAG
Additive
PAG
Additive
사업 영역
PR
Semiconductor