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超净高纯试剂

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色浆

高纯度化学药品

FINE CHEMICAL

凭借在电子材料与精密化学领域不断研发与卓越的技术实力,
发挥智能化工供应商职能。

ENF TECH基于领先的合成与提纯技术致力
于光致抗蚀剂用核心原料的生产。

依托合成(Synthesis)与提纯(Purification)技术,生产半导体/显示器制造过程中使用的精密化学产品。
包括单体、粘合剂等显示器用产品,作为半导体材料使用的光致抗蚀剂用单体、聚合物、
光酸产生剂与防反光膜用单体、聚合物等产品。

포토레지스트용
超净高纯试剂
区分 产品群
半导体用 光致抗蚀剂用Monomer, Polymer
Photo Acid Generator
Anti Reflective Coating Monomer, Polymer
Additive
Hardmask用原料
显示器 Monomer
Binder

主要产品

  • 포토레지스트용 주요제품
    光致抗蚀剂用原料

    ENF TECH作为一家国内生产光致抗蚀剂用核心原料的企业,在技术实力与销售增长方面拥有独特的优势。伴随三星电子、SK hynix等主要半导体制造公司色浆使用量的增加,核心原料单体、光酸产生剂等的市场规模也大幅增长。随着半导体电路的线宽日益变细,预计光致抗蚀剂的使用量将会逐步增加,因此与之相对应ENF TECH的单体/聚合物与光酸产生剂产业也拥有较高的增长潜力。ENF TECH与半导体材料企业从光致抗蚀剂研发初期开始就致力于核心原料的研发,拥有与日本等海外领先企业竞争的技术实力,作为国内独家核心原料供应企业正逐步走向世界。

光致抗蚀剂用核心原料供应
单体
PR聚合物
PAG
Additive
项目领域
PR
Semiconductor
포토레지스트용 핵심원료 공급 도형