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项目领域

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高纯度化学药品

超净高纯试剂

PROCESS CHEMICAL

凭借在电子材料与精密化学领域不断研发与卓越的技术实力,
发挥智能化工供应商职能。

半导体/显示器核心制造工艺用化学材料超净高纯试剂属于
ENF TECH的主力研发制造领域,是推动ENF TECH迈向成功,
成就今日规模的基础项目。

被广泛应用于半导体/显示器制造工艺的超净高纯试剂是可对各工艺产出率与不良品率产生绝对影响的必需化学材料,
依托于原料提纯(Purification)技术、回收利用(Recycle)技术、配方(Formulation)技术与界面活性剂应用技术等。

프로세스케미컬
超净高纯试剂
区分 产品群 产品
半导体用 Etchant 50% HF, BOE, HSN
Stripper Cu PERR, WLP用, CIS用
Thinner PGMEA, PGME等Solvent混合物
Developer TMAH混合物, nBA
其他 NH4OH, HMDS, IPA, Ethylene Glycol
显示器 Etchant Cu Etchant, Pixel Etchant, BOE
Stripper 有机系,半水基系
Cleaner OLED初期与中间清洗剂,Ethanol
Thinner PGMEA, PGME, nBA类混合物
Developer TMAH, KOH混合物

主要产品

  • 신너
    稀释剂

    稀释剂是清除半导体/显示器制造工艺基板的边缘部分或者喷嘴处不必要的光致抗蚀剂,保证工艺正常进行的基本材料。用于半导体晶园去边EBR(Edge Bead Remover),减少色浆用量的RRC,色浆Rework与管道清洗工艺。除TFT-LCD显示器EBR工艺外,还可用于色浆喷嘴、Coater Cup洗涤等。ENF TECH在国内首次研发应用稀释剂回收利用技术,在国内稀释剂市场中独占鳌头。

  • 박리액
    剥离剂

    剥离剂主要在半导体/显示器制造工艺中用于清除溶解蚀刻工艺中作为mask使用的色浆,包括在干法刻蚀(Dry Etching)工艺中用于清除色浆变形物聚合物等。ENF TECH基于配方(Formulation)添加剂应用、提纯(Purification)与回收利用(Recycle)技术,根据半导体与显示器各制造工艺的特殊性,研发销售各种剥离剂产品。

  • 식각액
    蚀刻液

    蚀刻液是半导体/显示器制造过程中用于湿法蚀刻(Wet Etching)工艺的材料。在显示器制造工艺中主要用于清除金属膜制作图案,在半导体制造工艺中,还被广泛用于去除硅氧化膜或氮化膜。

  • 현상액
    显影液

    显影液是通过在半导体/显示器制造过程中平版印刷工艺中选择性溶解暴露于紫外线照射下的光致抗蚀剂曝光/非曝光区域成型的产品。通过上述工艺成型的图案可用于蚀刻、植入工艺等的Mask或者为彩色滤光片等上色。ENF TECH不仅致力于TMAH和KOH等显影液的研发生产,而且依托添加剂应用技术开发和供应各种符合半导体特性和显示器显像特性的产品。

  • 세정액
    洗涤液

    洗涤液可清除半导体/显示器制造过程中产生的残余物、微粒等。伴随半导体/显示器制造过程中光刻图案日益变细,洗涤的重要性与日俱增。